Nasza praca zatytułowana: Plasmonic Characteristics of TiN Layers Deposited by ECWR Assisted MF Magnetron Sputtering została opublikowana w czasopiśmie Advanced Physics Research (IF:2.8). W pracy badaliśmy cienkie warstwy azotku tytanu (TiN) wytwarzane nową metodą sputteringu z wykorzystaniem plazmy ECWR. Analizowaliśmy ich strukturę, właściwości optyczne oraz zachowanie plazmoniczne, pokazując że technika ta pozwala uzyskać wysokiej jakości, metaliczne filmy TiN. Wyniki potwierdzają, że TiN może stanowić trwałą i obiecującą alternatywę dla metali szlachetnych w zastosowaniach plazmonicznych i SERS.
Dzięki współpracownikom z Czech praca jest opublikowana w wolnym dostępie.
DOI: 10.1002/apxr.202500166